Предложение на вакуумную установку для нанесения упрочняющих покрытий

Прошу направить предложение на вакуумную установку для нанесения упрочняющих покрытий с диаметром камеры примерно 800 мм и высотой 1400 мм.

 

Вакуумная установка V-1500-U-D предназначена для нанесения упрочняющих покрытий на инструмент, оснастку, пресс-формы и другие изделия с применением электродуговых, магнетронных и ионных источников плазмы. Вакуумная установка также может применяется для нанесения других покрытий декоративных, защитных, токопроводящих и др.

Состав установки V-1500-U-D

1. Вакуумная камера

Вакуумная камера выполнена из нержавеющей стали 12Х18Н10Т. Вакуумная камера цилиндрического, шкафного типа. На боковой поверхности камеры располагаются электродуговые источники, магнетрон, ионный источник. В вакуумной камере размещаются датчики контроля давлений, температуры, датчики программируемого прибора анализа плазмы, натекатели технологического газа, нагреватели. Высота камеры 1300-1400 мм, диаметр камеры 800-900 мм. Геометрические размеры камеры, эффективная рабочая зона магнетрона, оптические фильтры прибора анализа плазмы, величина загрузки установки, объем программного обеспечения, параметры покрытий уточняются при согласовании технического задания Заказчика. На стенки камеры установлены технологические заглушки, позволяющие быструю переналадку установки от электро-дуговых до магнетронных процессов.

2. Вакуумная система

Вакуумная система включает в себя клапаны с условным проходом 63 мм, агрегат форвакуумный, затвор с условным проходом 400 мм, насос высоковакуумный, насос диффузионный Dif 400 производительностью 5000 л/сек.

3. Технологическая оснастка

Технологическая оснастка планетарного и цилиндрического типа совершает относительное и переносное вращение. Скорость вращения 2-30 об/мин. Подложки размещаются в сменных кассетах. Привод вращения оснастки размещается на верхней крышке вакуумной камеры. Геометрические размеры изделия, тип их количество уточняется при согласовании технического задания.

4. Вакуумметры

Вакуумметры моделей ВТ-1-4 и ВМБ-1-2, которые располагаются в стойке управления.

5. Магнетроны

Несбалансированный магнетрон с блоками питания: 1 шт.

  • Длина рабочей зоны магнетрона: 1100 мм.
  • Мощность блока питания: 15-20 кВт.
  • Рабочее напряжение: 300-500 В
  • Напряжение холостого хода: 1200 В.
  • Магниты: самарий – кобальт.

6. Ионный источник планарного типа с замкнутым дрейфом электронов

  • Длина рабочей зоны: 1100 мм.
  • Два режима работы: очистка и ассистирование.
  • Анодное напряжение: 0-2500 В.
  • Ток электромагнита: 0-5 А.
  • Рабочее давление: 10-2- 1 Па.
  • Рабочие газы: аргон, кислород и др.

7. Прибор анализа плазмы и управления

Прибор преобразует сигналы, которые поступают в контроллер. Контроллер вырабатывает управляющие сигналы, которые через ключи поступают на исполнительный механизм. Расход рабочих газов, состав газовой смеси, концентрация плазмы и давление поддерживаются на заданном уровне, что является определяющим для процессов реактивного магнетронного распыления. Комплектующие прибора импортные, контроллер, ЖК панель фирмы SIEMENS.

8. Электродуговые источники с блоками питания и управления

Количество электродуговых источников: 4 шт.

  • Длина рабочей зоны: 1100 мм.
  • Количество катодов: 4 шт.
  • Рабочее напряжение: 25-30 В.
  • Мощность блока питания: 6 кВт на 1 катод.

9. Силовые стойки и стойка управления

В силовых стойках размещаются блоки питания и управления магнетронами, электродуговыми источниками, ионным источником. В стойке управления размещены вакуумметры, прибор температуры, прибор анализа плазмы, контроллеры. В стойке управления предусмотрено применение технологического контроллера фирмы Сименс, позволяющего обеспечить автоматизацию процесса.

10. Прибор измерения температуры

11. Система напуска технологического газа

Технические характеристики установки V-1500-U-D

  1. Время откачки вакуумной камеры до рабочего давления составляет не более 30 мин.
  2. Время обработки ионным пучком: 10-15 мин.
  3. Применение ионного источника исключает операцию нагрева подложек или позволяет существенно снизить температуру процесса. Нагреватели используются для обезгаживания вакуумной камеры, технологической оснастки, кроме того, комбинация нагрева и обработки ионным источником позволяет уверенно формировать покрытия с высокими физико-механическими характеристиками.
  4. Процесс нанесения покрытий автоматизирован. Автоматически могут поддерживаются следующие параметры:
    1. давление,
    2. токи,
    3. напряжение,
    4. соотношение концентрации ионов плазмы (алюминий, кислород, аргон, молибден, кремний, титан),
    5. температура в камере.
  5. Управление электродуговым, магнетронным и ионным источниками независимое.
  6. Применяемые мишени алюминий, титан и др. Расход мишеней ориентировочно на 2-3 месяца работы.
  7. Мощность, потребляемая установкой ориентировочно: 50 -60 кВт.
  8. Площадь, занимаемая установкой: 12 м2.
  9. Периодичность чистки оснастки примерно один раз в неделю. Подложки устанавливаются в кассеты.
  10. Установку обслуживает один оператор.

Срок реализации проекта 7-8 месяцев со дня оплаты. Пуско-наладочные работы, обучение персонала ориентировочно три-четыре недели.

С уважением, Лауреат Госпремии РБ, к.т.н. Мазуркевич Александр Михайлович.

 

Также см.: