Вакуумная установка для нанесения покрытий на полимерную пленку

Вакуумная шлюзовая установка V-2000-IP-R предназначена для нанесения комбинированными методами в автоматическом режиме широкого спектра покрытий на полимерную пленку.

Состав вакуумной установки для нанесения покрытий на пленку

  1. Модуль загрузки (подготовки) пленки к напылению. Модуль предназначен для предварительной очистки и обезгаживания пленки.
  2. Рабочая вакуумная камера. В рабочей камере происходит окончательная очистка, обработка пленки планарным ионным источником и нанесение требуемых покрытий планарными магнетронами по заданной технологии. В рабочей камере размещено устройство перемотки, семь магнетронов планарной конструкции, нагревательные элементы, датчики контроля давления, спектра плазмы, спектрометрической системы.
  3. Вакуумная система состоит из высокопроизводительных высоковакуумных насосов и агрегатов предварительной откачки. Вакуумная установка обеспечивает достижение необходимого давления в модулях загрузки (подготовки), выгрузки пленки и непосредственно в рабочей камере.
  4. Модуль выгрузки или (выхода пленки) предназначен для стабилизации давления и температурных параметров.
  5. Ионный источник обеспечивает очистку, активацию поверхности пленки ионами аргона с энергией 0-800 эВ. Размер ионного пучка на срезе анода составляет 1400х100 мм. Расстояние рабочей зоны по нормали к подложке 0--400 мм.
  6. Магнетроны планарной конструкции. Размер мишени 1400х80 мм. Камера позволяет размещение до 7 магнетронов.
  7. Устройство перемотки обеспечивает автоматическое движение пленки с позиции загрузки через шлюз и на намоточный барабан.
  8. Прибор анализа плазмы и управления расходом технологического газа обеспечивает стабилизацию технологических параметров и воспроизводимость процесса получения покрытий.
  9. Спектрометрическая система контроля толщины покрытий обеспечивает контроль покрытий в автоматическом режиме с выводом характеристики на монитор компьютера.
  10. Стойка питания предназначена для питания магнетронных и ионных источников и других исполнительных механизмов.
  11. Стойка управления обеспечивает автоматическое проведение технологического процесса нанесения покрытий. В стойку управления входят контроллеры откачки, температуры, прибора анализа плазмы, спектровизор, прибор замера остаточных давлений и т.д.

Основные технические характеристики вакуумной установки для нанесения покрытий на пленку

  • Рабочая вакуумная камера: 2000х1600х1400 мм.
  • Шлюз (2 шт.): 1600х400х400 мм.
  • Давление в камере: 1х10-3 Па.
  • Рабочее давление: 10-1 Па.
  • Мощность магнетронных источников: 5, 10, 25 кВт.

Параметры ионного источника

  • Ускоряющее напряжение: до 2000 В.
  • Рабочий ток: до 1 А.
  • Производительность: 10-30 м/мин.
  • Размер ионного пучка на срезе анода: 1400х100 мм.
  • Размер рабочей зоны по нормали к подложке: 0-400 мм.
  • Спектральный диапазон прибора замера толщины покрытий: до 1000 нм.
  • Мощность потребляемая установкой: 150 кВт (в зависимости от технологий).

К особенностям вакуумной установки следует отнести

  • Наличие модуля предварительной подготовки ионного источника позволяет формировать покрытия с высокими физико-механическими свойствами.
  • Исключение периодической загрузки изделий (бухты) в рабочую камеру существенно уменьшает наличие примесей и формирование однородных покрытий - высокая производительность установки.
  • Возможность контроля толщины покрытий в режиме осаждения и вывод спектральной характеристики на монитор компьютера.

 

Также см.: